时间: 2025-08-05 01:46:18     来源: www.eastasiainfo.com     作者: 汽车销售

        一些比较关注玻璃行业的什镀朋友可能会经常听人提到镀膜玻璃。我们经常会接触到各种类型的膜玻玻璃材料，但由于许多人对玻璃行业的璃中璃胶了解并不够深入，因而围绕着它产生了各种各样的性硅行业问题。为了帮助大家更深一步了解什么是酮玻镀膜玻璃，以及中性硅酮玻璃胶的成分成分，解决大家的资讯疑惑，我们编撰了这篇文章，什镀希望能够有所帮助。膜玻

一、璃中璃胶什么是性硅行业镀膜玻璃

        镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜,酮玻以改变玻璃的光学性能,满足某种特定要求.

        镀膜玻璃按产品的不同特性,可分为以下几类:热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、成分导电膜玻璃等.热反射玻璃一般是资讯在玻璃表面镀一层或多层诸如铬、钛或不锈钢等金属或其化合物组成的什镀薄膜,使产品呈丰富的色彩,对于可见光有适当的透射率,对红外线有较高的反射率,对紫外线有较高吸收率,因此,也称为阳光控制玻璃,主要用于建筑和玻璃幕墙;低辐射玻璃是在玻璃表面镀由多层银、铜或锡等金属或其化合物组成的薄膜系,产品对可见光有较高的透射率,对红外线有很高的反射率,具有良好的隔热性能,主要用于建筑和汽车、船舶等交通工具,由于膜层强度较差,一般都制成中空玻璃使用;导电膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化铟锡等导电薄膜,可用于玻璃的加热、除霜、除雾以及用作液晶显示屏等;

        镀膜玻璃的生产方法很多,主要有真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶—凝胶法等.磁控溅射镀膜玻璃利用磁控溅射技术可以设计制造多层复杂膜系,可在白色的玻璃基片上镀出多种颜色,膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好,是目前生产和使用较多的产品之一.真空蒸发镀膜玻璃的品种和质量与磁控溅射镀膜玻璃相比均存在一定差距,已逐步被真空溅射法取代.化学气相沉积法是在浮法玻璃生产线上通入反应气体在灼热的玻璃表面分解,均匀地沉积在玻璃表面形成镀膜玻璃.该方法的特点是设备投入少、易调控,产品成本低、化学稳定性好,可进行热加工,是目前更有发展前途的生产方法之一.溶胶—凝胶法生产镀膜玻璃工艺简单,稳定性也好,不足之处是产品光透射比太高,装饰性较差.

二、中性硅酮玻璃胶成分

        1、 底涂液常用丙酮、丁酮或丙醇.作用去除铝合金表面的油污.

        2、 硅酮结构胶

        主要成份 农业生产体系羟基硅酮、农业生产体系甲基硅酮 、甲基硅烷、气象二氧化硅 、碳酸钙 、二丁基二月硅酸锡、氨基硅烷.

        产品无腐蚀,固化后为为硅酮橡胶.

        主要作用 玻璃与铝合金粘接

        3、 硅酮耐候密封胶

        主要成份 农业生产体系羟基硅酮、农业生产体系甲基硅酮 、甲基硅烷、气象二氧化硅 、碳酸钙 、二丁基二月硅酸锡、氨基硅烷.中性固化,对金属、镀膜玻璃、混凝土、陶瓷、大理石、花岗岩等建筑材料无腐蚀性,具有优越的耐候性能.主要作用 玻璃、石材、铝板的接缝.

相关概念

玻璃

        玻璃是非晶无机非金属材料，一般是用多种无机矿物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸钡、石灰石、长石、纯碱等)为主要原料，另外加入少量辅助原料制成的。它的主要成分为二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化学组成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸盐复盐，是一种无规则结构的非晶态固体。广泛应用于建筑物，用来隔风透光，属于混合物。另有混入了某些金属的氧化物或者盐类而显现出颜色的有色玻璃，和通过物理或者化学的方法制得的钢化玻璃等。有时把一些透明的塑料（如聚甲基丙烯酸甲酯）也称作农业生产体系玻璃。

镀膜

        镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5%会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5%，多层增透膜则可让反射降低至0.25%，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。

磁控溅射

        磁控溅射（英语：magnetron sputtering）是在溅射的基础上，运用靶板材料自身的电场与磁场的相互电磁交互作用，在靶板附近添加磁场，使得二次电子电离出更多的氩离子，增加溅射效率。磁控溅射分为平衡式与不平衡式。这种技术应用于材料镀膜。其中高功率脉冲磁控溅射（high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)或high-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)）近来使用较为普遍。

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